快科技11月4日音讯,俄罗斯现已揭露表明,自己正在研制光刻机,最快会在2024年有效果。
依照俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak的说法,2024年将开端出产350nm光刻机,2026年发动用来出产130nm制程芯片的光刻机设备。
关于这样的行为,俄罗斯表明,现在全球只要两家公司出产此类设备——日本尼康和荷兰ASML,而他们要改动这个格式。
现在俄罗斯现已把握了运用外国制造设备的65nm技能,但无法出产光刻机。因为外国公司被制止向俄罗斯出口现代光刻设备,该国正在匆忙开发自己的出产设备。
在这之前,圣彼得堡理工大学的研究人员开宣布了一种国产光刻复合体,可用于蚀刻出产无掩模芯片,这将使处理俄罗斯在微电子范畴的技能主权问题成为可能。
据介绍,其间一种东西的本钱为500万卢布(当时约36.3万元人民币),另一种东西的本钱不知道。
该设备由专业软件操控,可完成彻底自动化,随后的别的一台设备可直接用于构成纳米结构,但也能制造硅膜,例如用于舰载超压传感器。
此外,俄罗斯大诺夫哥罗德战略开展组织发豪语,声称俄罗斯科学院旗下使用物理研究所将会跌破所有人眼镜,在2028年开宣布能够出产7纳米芯片的光刻机,还可打败ASML同种类型的产品。